CLS Trainingen

AutoCAD P&ID Basis

Algemene informatie over de cursus

Tijdens de tweedaagse cursus AutoCAD P&ID Basis leert u piping- en processchema’s tekenen met behulp van AutoCAD P&ID, de nieuwe oplossing voor het tekenen van P&ID's van Autodesk Plant Solutions.

Tijdens deze cursus wordt niet alleen aandacht besteed aan de eenvoudig te gebruiken user interface, maar ook aan de project- en datamanagerfunctionaliteiten. Deze functionaliteiten bieden de gebruiker zeer ruime mogelijkheden met betrekking tot het toevoegen en wijzigen van informatie, het genereren van rapportages, het centraal invullen van projectgegevens en het publiceren van een volledig project.

De cursus AutoCAD P&ID – Basis wordt gegeven in een van onze Autodesk Trainingscenters en wordt afgesloten met een officieel Autodesk-certificaat.

Lesmateriaal en lunch zijn bij de prijs inbegrepen.
Doelgroep

Deze cursus is bestemd voor iedereen die piping- en processchema's wil leren tekenen met behulp van AutoCAD P&ID.

Voorkennis

Voor deze cursus is elementaire basiskennis van AutoCAD vereist. Daarnaast is enige werkervaring met AutoCAD wenselijk. Voorafgaande kennis van de procesindustrie is handig, maar niet noodzakelijk.

Duur

De duur van deze cursus is twee dagen.

Groepsgrootte

De maximale groepsgrootte bedraagt acht deelnemers.

Certificaat

Na afloop van deze opleiding ontvangen alle cursisten een officieel Autodesk-certificaat.

Plaatsen / leslocaties

veenendaal

Gratis informatie aanvragen

Vul hieronder jouw gegevens in, dan krijg je gratis informatie toegestuurd.

  • De ingevoerde (persoons)gegevens worden door de geselecteerde opleidingsaanbieder(s) gebruikt om de gestelde vraag te beantwoorden;
  • Indien gewenst mag de onderwijsinstelling waar ik mijn aanvraag naar stuur mijn gegevens bewaren om mij van advies te voorzien;
  • Ik ben tenminste 16 jaar oud, of heb toestemming van mijn ouders of voogd om deze informatieaanvraag te verzenden;
  • De privacy statement en algemene voorwaarden van Stichting ROC.nl zijn van toepassing.